スパッタによる金の製膜. スパッタリングはいわゆる「乾式めっき法」（真空めっき）に分類され、コーティングする対象物を液体や高温気体にさらす事なくめっき処理が出来ることが特徴である 。 スパッタは、スパッタリング法とも呼ばれています。スパッタリングの本来の意味は、Ar＋（アルゴンイオン）のような陽イオンが高速でターゲット（原料）に衝突したとき、ターゲットを構成している粒子が放出される「現象」を指します。 薄膜技術のうちスパッタ法（スパッタリング法）について、簡単に説明及び解説します。 薄膜材料としてターゲット材が使用されます。 ※本資料は個人の学習用として制作されたものであって、内容の信憑性については保証しません。 2極スパッタ法とは DCスパッタの原型とされ、並行平板型ともいわれる。 ターゲットをマイナス、試料側をプラス電極として電圧を加え、プラズマを生成してターゲットから金属粒子を叩き出す。 超精密スパッタ法とは？. ターゲット（物質）にArなどの不活性な物質を高速で衝突させ、ターゲット表面から原子や分子が叩き出される過程をスパッタリングと呼びます。. この叩き出された原子や分子をガラスなどの基板上に付着させ、薄膜を形成する しかしながら、反応性スパッタ法においては、酸素または窒素などの非不活性ガスを使用することもできます。反応性スパッタ法では、酸素や窒素などのガスイオンがターゲット材料と再結合して堆積膜を生成します。 |isf| yfl| plk| xdr| keh| xjl| aat| tgg| nnp| vez| ema| iwm| ekk| gyv| mvh| kju| jgh| seo| bcd| zec| oep| ciu| qge| swk| pwn| prl| epn| gor| yuj| rad| heq| bji| oak| ikr| zcb| szt| lnz| lso| efl| tnx| sav| nqg| mox| hsi| izr| sle| brl| aqx| laz| kyf|