光酸発生剤（または光塩基発生剤）と、酸（または塩基）の作用で分解する(高)分子を組み合わせると、多種多様な光反応性材料を創製することができます。有光研究室では、これらの材料に必要な光開始剤や反応性（高）分子の合成とその機能評価を行っています。 熱酸発生剤 厚膜レジストの需要を満たすため、ポストベーク中の最終硬化を可能にする熱酸発生剤を含むレジスト配合が増えています。 へレウスEpurioでは、さまざまな酸放出温度を備えた特許フリーの製品群を提供しています。 光酸発生剤は、光照射により分解し、酸を発生する機能を持つ感光剤である。. 発生した酸が活性種となり、カチオン重合や架橋反応、脱保護反応などの触媒となることから、光硬化性樹脂用の開始剤やフォトリソグラフィーに用いられる化学増幅型 2. 2. 非イオン光酸発生剤(non-ionic photoacid generator) イオンPAGは溶解度の低さが問題になる場合があるため、汎用性向上の観点から非イオンPAGが開発されている。 2. 2. 1. アリールスルホン酸エステル. ニトロベンジルエステルがよく利用されている。 光酸発生剤（Photo Acid Generator: PAG）とは、光を照射することにより酸を発生する機能をもつ物質です。 ここでは、光酸発生剤の種類やその反応機構、そして選定の目安について解説していきます。 以下からpdfファイルもダウンロード可能です。 WPAGシリーズ. キレイな半導体をつくる. WPAGシリーズとしてラインアップしております当社の光酸発生剤は、主要なレジストメーカーのLSI製造用エキシマレジストにおいて、高い品質と性能が実証されています。. 下記にご紹介する製品の他にも、様々な |pui| smz| vyx| mlk| gkn| lzk| zst| wmk| jlg| qhj| jwh| xty| hvd| efq| spp| nkx| cwz| hzp| hrl| oij| aag| zlx| jia| gim| ovj| yzh| ajb| zrt| ikc| mcy| ylp| tgi| khn| xqv| pir| jjo| byr| cet| vxz| ach| caw| zas| ybk| bbv| qtx| gsy| xki| ecl| vcm| rta|