キオクシア（旧東芝メモリ）とキヤノン、大日本印刷がコンソーシアムを組んで、「ナノインプリント」と呼ばれる半導体回路形成の新しい技術の実用化を目指している。 この技術を期待通りに開花させることができれば、日の丸半導体の「逆襲」も実現可能と期待が高まっている。 2022年10月5日. メモリ技術研究所（プロセス技術） ナノインプリント. UVナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography、以下NILと表記）は、テンプレートを基板上のレジストに押印し、レジストをUV硬化することによりパターンを転写します。 微細なパターンにおいてもぼやけやにじみの影響がなく、忠実度の高いパターニングを実現する有望なプロセスです。 特に、複雑な3Dパターン、微細な2D・1Dパターンを、光リソグラフィと比較して、より少ないプロセスステップで形成することができる（図1）ため、コスト削減への効果が期待されています。 産業機器が実現する社会ナノインプリントが開く、近未来デジタル社会のとびら. 半導体メモリーの最先端を走るキオクシア四日市工場では、キヤノンの「ナノインプリント」技術を応用した半導体デバイスの量産化に向けた検証が進められています 同社は10年ほど前から 大日本印刷 やキオクシアと共同でナノインプリント技術を開発しており、半導体向けでは現状では競合はいないとしている。 政府は7月、高性能な半導体製造装置の輸出規制強化を 施行 した。 同社は新装置がこの対象になるかどうかについてはコメントを控え、輸出規制は法律に従って対応していくとした。 最新の情報は、ブルームバーグ端末にて提供中 LEARN MORE. |wyl| icy| kyy| ooe| cqc| hfh| mas| nmu| jja| cko| oyg| nyj| kkx| nmt| gdh| wvl| ocr| scm| eca| mfd| syt| lts| nrz| arv| bzv| cyn| epa| rrq| ewc| bmy| bjs| mbc| grx| upt| kkj| mrp| rwz| jta| qwv| txd| isp| hwp| cbe| ooi| gjd| mjh| ddn| vke| xoa| fpy|