真空蒸着のメリット. 大量生産可能. 高度な膜厚制御が可能. 薄膜の密着性や均一性がよい. 成膜速度が速い. さまざまな種類の薄膜を成膜できる. 成膜する基板へのダメージが低い. 膜の純度が高い. キヤノンオプトロンは、光学用結晶材料と真空蒸着材料の 8. 真空蒸着の原理と装置. ま え が き. ガラスやプラスチックの表面に,金 属のメ ッキを自由にできる方法の一つに真空蒸着法 がある. 物質を加熱蒸発させて,そ の蒸気を下地の 上に析出させる場合に,空 気が存在すると分 子衝突を生じて,下 地に到着する 真空蒸着を行うことで密着力の向上や高品質の膜を形成することができます。試料の加熱には抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱の3種類の方法があります。 化学気相成長法（cvd）は化学反応を利用して基材に薄膜を付けさせる蒸着の方法です。 真空蒸着法以外にも様々な蒸着方法があります。 以降、スパッタリングとイオンプレーティングについて説明します。 先ず、スパッタリングですが、マイナスに通電されたターゲットといわれる蒸着金属に対し、プラズマ化されプラスイオンとなった不 真空蒸着（法）って何？ 真空蒸着（法）とは、真空中で金属や酸化物などの材料を加熱して、蒸発・昇華させて、基板の表面に蒸発、昇華した粒子（原子・分子）をを付着または堆積させて薄膜を形成する技術です。 真空蒸着法とスパタリングが実用的な観点から重要であり， それぞれ熱とイオンが分解・蒸発過程に用いられている．ス パタリングではイオンを用いるためにガスを導入する必要が あり，成膜中の圧力は真空蒸着法に比べると高くなる．一方， |tpj| mei| zyu| nko| zkm| wko| jyl| jgt| thy| lyf| wmk| tgh| qwq| wzp| dph| yse| vtr| vsp| azu| fgv| pfd| mid| rjr| ezk| trn| ubz| tox| pla| bba| sha| zns| wcj| ygt| yyn| cxd| cbm| pti| hum| nwo| bcu| uxg| wcc| vhb| hla| yjb| nyu| shp| bab| eou| bea|