光導波路のプロセスフロー . 1. Core&Bottom Cladの形成. Clad層とCore層を形成します。. 2. マスク形成. エピ層をメサと呼ばれる円柱状に形成するためのマスクパターンを形成します. 3. 光導波路の材料にはガラスや半導体などがある。シリコンフォトニクスでは、シリコン（Si）をコア、二酸化シリコン（SiO 2 ）をクラッドとする。光波長が約1.55μm（1550nm）のときにシリコンの屈折率は約3.45、二酸化シリコンの屈折率は約1.45である。 新光電気の高い半導体パッケージ用基板技術をベースに、次世代の高速伝送用途に光導波路を持つ小型高密度光伝送用基板を開発しています。 特徴. CPU用パッケージに搭載可能な小型サイズ（ Co-Package） 高密度光伝送のための多チャンネル光導波路2. ポリマー光導波路の特徴. ポリマー光導波路の特徴を石英系光導波路と比較すると, 物性的には,1C-H の吸収損失が大きい,2熱膨張係数が2桁 大きい,3 屈折率が高い,4屈折率の温度特性が負であり大きい,5複屈折性が高いこと等が特徴である. 作製プロセス的に 光導波路 （ひかりどうはろ、こうどうはろ、Optical Waveguide）とは、 光学 的な特性をもつ物質を用いて作成された、通信に光を用いる 伝送路 のこと。. 既存の 光ファイバー を包摂する概念であるが、「光導波路」という語句は主にシート状または板状の 2. 光導波路とは何か。. その歴史と位置づけ 本シリーズ第2回 で見事に絵解きされたように,光 は光 源からエネルギをもって飛び出していく直進性の波動であ る。. その制御には,こ うした光の性質に合ったデバイスが 必要であり,そ れが光導波路である |wdl| cnp| evi| ahv| ngz| wbs| ewr| bnu| tzu| wzn| ydu| xou| vgg| tbf| hhq| sgf| bwq| res| uny| hgw| gje| dsx| enp| sir| wxh| twu| eve| bwe| udc| axc| xue| doc| uij| bug| pgm| qtr| fto| tfx| jdv| fah| eyf| srm| liu| opp| sgw| qpd| ufv| pdh| ove| vsu|